Tribologicenteret har købt endnu en ion-accelerator som bl.a. skal bruges til nyt fælles-europæisk udviklingsprojekt rettet mod bedre slipbelægninger til sprøjtestøbebranchen.
Til efteråret positionerer Tribologicenteret, Teknologisk Institut sig som Europas førende udviklingscenter inden for avancerede, ionstråle-baserede overfladebehandlinger. Det sker, når instituttet modtager en nyindkøbt ionaccelerator. Acceleratoren er overtaget fra det spanske institut Tecnalia.
I forvejen har instituttet Danmarks eneste PVD HiPIMS coating anlæg, som lægger mikrometer-tynde keramiske belægninger på vitale komponenter til industrimaskiner, sprøjtestøbeværktøjer og bukke- og stanseværktøjer, hvorved behovet for smøring reduceres eller helt elimineres, ligesom slid og friktion på bearbejdede overflader og bevægelige komponenter reduceres væsentligt.
Navnet PVD står for Physical Vapor Deposition. I processen fordamper man fast stof i et vakuumkammer ved hjælp af et plasma, hvorefter stoffet ’vandrer’ over på modtageemnet som en ultratynd og meget hård overfladebelægning.
Ny og effektiv overfladebehandling
For at få plads til den nyindkøbte accelerator og den forventede forøgelse af centerets øvrige PVD aktiviteter, udvider centeret sine lokaler med en hal på 250 m2, der skal huse Tribologicenterets to acceleratorer. Den nye accelerator vil blive installeret i den nye acceleratorhal i efteråret.
- Vores eksisterende accelerator kører hele tiden og er nærmest rødglødende grundet vores nye "Super-Slip" produkt. Det her åbner for mere forskning og udvikling, da vi ikke har ret meget ledig tid på den eksisterende accelerator. Den nye accelerator vil både aflaste og udvide vores muligheder, ligesom den vil sikre kort leveringstid og ikke mindst backup-sikkerhed i forbindelse med planlagt vedligeholdelse og eventulle nedbrud.
Desuden bruger vi som GTS institut en del maskintid og ressourcer på at udvikle nye overfladebehandlinger og ydelser inden for fremtidens overfladeløsninger, siger centerchef Lars Pleth Nielsen fra Tribologicentret ved Teknologisk Institut.